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集成电路制造工艺员
当注入剂量增加到某个值时,损伤量不再增加,趋于饱和。饱和正是对应连续()的形成。A、非晶层B、单晶层C、多晶层D、超晶层
当注入剂量增加到某个值时,损伤量不再增加,趋于饱和。饱和正是对应连续()的形成。A、非晶层B、单晶层C、多晶层D、超晶层
题目
当注入剂量增加到某个值时,损伤量不再增加,趋于饱和。饱和正是对应连续()的形成。
A、非晶层
B、单晶层
C、多晶层
D、超晶层
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正确答案:
A
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